真空電鍍是一種物理沉積現象，即在真空狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
真空電鍍即真空蒸發鍍膜﹐其原理是在高度真空條件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金屬鋁片受熱蒸發并附于(塑料)工件表面﹐形成一層金屬膜的方法。
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真空電鍍的特點:
1> 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格復制出啤件表面的形狀。
2> 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設備較昂貴。
3> 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數少﹐生產效率較低。
4> 只限于比鎢絲熔點低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾。
5> 對鍍件表面質量要求較高，通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷。
6> 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等。
